The Japan Times - Chinas Chipangriff auf ASML

China hat eine technologische Schwelle überschritten, die westliche Strategen noch vor wenigen Jahren für kaum erreichbar hielten. Erstmals läuft im Land die begrenzte Serienfertigung eigener Immersions-DUV-Lithografieanlagen an. Damit nimmt Peking ausgerechnet jene Technologie ins Visier, die bislang als eine der wirksamsten Engstellen der chinesischen Halbleiterindustrie galt.

Der Schritt bedeutet noch nicht, dass China den niederländischen Weltmarktführer ASML technologisch eingeholt hat. Er bedeutet aber, dass die jahrzehntelang nahezu alternativlose Abhängigkeit chinesischer Chipfabriken von ausländischen Lithografiesystemen nicht mehr als dauerhaft garantiert gelten kann. Genau darin liegt die strategische Tragweite des Vorgangs.

Vom Prototyp zur begrenzten Serienfertigung
Im Zentrum der Entwicklung steht die staatlich kontrollierte Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Das Unternehmen wurde erst im August 2023 gegründet und mit einem registrierten Kapital von sieben Milliarden Yuan ausgestattet. In dem weitgehend abgeschotteten Projekt wurden offenbar Ingenieurteams mehrerer chinesischer Lithografieunternehmen zusammengeführt, darunter Fachkräfte von Shanghai Yuliangsheng Technology und Shanghai Micro Electronics Equipment.

Für 2026 ist die Fertigung von ungefähr fünf Immersions-DUV-Anlagen vorgesehen. Im Jahr 2027 soll die Produktion auf etwa zwanzig Systeme steigen. Erste Maschinen sollen an die chinesischen Halbleiterhersteller SMIC, Hua Hong Semiconductor und ChangXin Memory Technologies geliefert werden. Diese Stückzahlen wirken im Vergleich zur globalen Nachfrage zunächst unbedeutend. Ihre politische und industrielle Bedeutung liegt jedoch nicht im unmittelbaren Absatzvolumen. Entscheidend ist, dass China offenbar den Übergang von einzelnen Versuchsanlagen zu einer planbaren, wenn auch noch sehr kleinen Fertigungsstruktur vorbereitet.

Genau dieser Übergang ist bei komplexen Industrietechnologien häufig der schwierigste Schritt. Ein Prototyp kann unter kontrollierten Bedingungen funktionieren. Eine Maschine für eine Chipfabrik muss dagegen über Monate zuverlässig arbeiten, tausende Wafer mit gleichbleibender Genauigkeit belichten und sich nahtlos in zahlreiche weitere Produktionsschritte einfügen.

Warum Lithografie über die Chipmacht entscheidet
Lithografieanlagen übertragen winzige Schaltungsmuster auf Siliziumwafer. Je präziser diese Muster belichtet werden können, desto kleiner, leistungsfähiger und energieeffizienter lassen sich die späteren Transistoren fertigen.

Bei der Immersions-DUV-Lithografie wird zwischen Projektionsoptik und Wafer eine dünne Wasserschicht eingesetzt. Dadurch erhöht sich die optische Auflösung des Systems. Moderne Anlagen arbeiten mit Argonfluorid-Lasern und einer Lichtwellenlänge von 193 Nanometern.
Die chinesische Anlage soll zunächst für Fertigungsprozesse der 28-Nanometer-Klasse ausgelegt sein. Durch Mehrfachbelichtung können solche Systeme grundsätzlich auch für deutlich feinere Strukturen eingesetzt werden. Dabei wird eine einzelne Schicht nicht nur einmal, sondern wiederholt mit unterschiedlichen Masken belichtet und anschließend weiterbearbeitet.

Auf diese Weise können theoretisch auch Chips der Sieben-Nanometer-Klasse hergestellt werden. Genau dieses Verfahren hat SMIC bereits bei chinesischen Hochleistungsprozessoren angewandt. Es ermöglicht technologische Fortschritte ohne EUV-Anlage, bringt jedoch erhebliche Nachteile mit sich.

Jede zusätzliche Belichtung erhöht den Aufwand. Mehr Masken, zusätzliche Prozessschritte und höhere Anforderungen an die präzise Ausrichtung der einzelnen Strukturen treiben die Kosten nach oben. Gleichzeitig steigt das Risiko kleinster Abweichungen, die einen Chip unbrauchbar machen können. Was technisch möglich ist, muss deshalb noch lange nicht wirtschaftlich konkurrenzfähig sein.

Der eigentliche Albtraum für ASML
ASML verliert durch fünf chinesische Anlagen nicht plötzlich seine marktbeherrschende Stellung. Der niederländische Konzern verfügt über jahrzehntelange Erfahrung, ein globales Netz hoch spezialisierter Zulieferer und eine Fertigungspräzision, die sich nicht allein durch den Nachbau einer Maschine ersetzen lässt.

Der Albtraum besteht vielmehr darin, dass China eine glaubhafte Alternative aufzubauen beginnt. Für chinesische Chipfabriken muss eine heimische Anlage nicht sofort genauso leistungsfähig sein wie das beste westliche System. Sie muss zunächst nur gut genug funktionieren, um eine politisch gefährliche Abhängigkeit zu verringern. Unter normalen Marktbedingungen würde ein Halbleiterhersteller stets die Anlage wählen, die den höchsten Durchsatz, die beste Ausbeute und die geringsten Kosten pro Chip ermöglicht. Unter Exportbeschränkungen verändert sich diese Rechnung. Eine technisch schwächere heimische Maschine kann strategisch wertvoller sein als eine überlegene ausländische Anlage, deren Lieferung, Wartung oder Ersatzteilversorgung jederzeit eingeschränkt werden könnte.

Damit haben die westlichen Kontrollen einen unbeabsichtigten Nebeneffekt erzeugt. Sie erschweren China zwar kurzfristig den Zugang zu den modernsten Produktionsmitteln, schaffen aber gleichzeitig einen dauerhaft geschützten Heimatmarkt für chinesische Ersatztechnologien. Den Entwicklern in Shanghai steht ein Kundenkreis zur Verfügung, der nicht allein nach Effizienz entscheidet, sondern zunehmend nach Versorgungssicherheit und politischer Verfügbarkeit.

Der große Haken bleibt die industrielle Reife
Bislang fehlen öffentlich überprüfbare Leistungsdaten der chinesischen Anlage. Weder der tatsächliche Waferdurchsatz noch die Überlagerungsgenauigkeit, die Ausfallzeiten oder die erreichbare Produktionsausbeute sind belastbar dokumentiert. Auch eine vollständig ausgestattete Maschine wurde noch nicht öffentlich präsentiert.

Diese Werte sind jedoch entscheidender als die bloße Angabe einer theoretisch erreichbaren Strukturbreite. Eine Lithografieanlage kann einzelne Muster korrekt belichten und dennoch für die industrielle Serienfertigung ungeeignet sein. Schon minimale Ungenauigkeiten zwischen den verschiedenen Schichten eines Chips können zu hohen Ausschussquoten führen.
ASMLs aktuelle Immersionssysteme verarbeiten je nach Modell mehrere hundert Wafer pro Stunde. Zugleich erreichen sie eine Überlagerungsgenauigkeit im Bereich weniger Nanometer. Hinter diesen Kennzahlen stehen nicht nur Präzisionsoptik und Mechanik, sondern auch Messsysteme, Software, Prozessdaten, Wartungserfahrung und jahrelange Abstimmung mit den weltweit führenden Chipproduzenten.

China muss deshalb nicht nur einen Scanner bauen. Das Land muss ein vollständiges industrielles System entwickeln, das Lichtquelle, Optik, Wafersteuerung, Maskentechnik, Fotolacke, Messtechnik und Prozesssoftware zusammenführt. Hinweise auf weiterhin importierte kritische Komponenten zeigen, dass die technologische Unabhängigkeit noch nicht vollständig erreicht ist.

Auch die geplanten Stückzahlen verdeutlichen den Abstand. ASML lieferte 2025 insgesamt 131 Immersions-DUV-Systeme aus. Für 2026 verfügt der Konzern über eine Produktionskapazität von ungefähr 130 Anlagen. Die geplanten fünf chinesischen Maschinen entsprechen damit nicht einmal vier Prozent dieser Größenordnung.

Selbst die für 2027 vorgesehenen zwanzig Systeme würden ASML nicht aus dem Weltmarkt drängen. Sie könnten jedoch ausreichen, um erste chinesische Fabriken auszustatten, Betriebserfahrungen zu sammeln und eine Lernkurve in Gang zu setzen. Genau diese Lernkurve ist langfristig entscheidend.

DUV ist noch nicht EUV
Der größte technologische Abstand besteht weiterhin bei der Extrem-Ultraviolett-Lithografie. EUV-Systeme arbeiten mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern und ermöglichen die Belichtung besonders feiner Chipstrukturen mit deutlich weniger Prozessschritten. ASML ist weiterhin der einzige Anbieter, der solche Systeme in kommerziell nutzbaren Stückzahlen herstellen kann. China hat keine EUV-Anlage von ASML erhalten. Die bestehenden Exportkontrollen verhindern seit Jahren die Lieferung dieser Maschinen und speziell dafür entwickelter Komponenten.

China arbeitet zwar parallel an einem eigenen EUV-System. Der bislang bekannte Entwicklungsstand befindet sich jedoch im Bereich eines Prototyps. Von einer stabilen Serienproduktion, die moderne Prozessoren wirtschaftlich herstellen könnte, ist dieses Projekt noch weit entfernt. Der Unterschied zwischen einer experimentellen EUV-Lichtquelle und einer industriell einsetzbaren Anlage ist gewaltig. In einem kommerziellen System müssen Laser, Zinnplasma, Vakuumtechnik, Spiegel, Masken, Sensoren und Wafersteuerung mit extremer Präzision zusammenspielen. Schon kleinste Verunreinigungen oder Abweichungen können den gesamten Belichtungsprozess beeinträchtigen.

ASML entwickelt seine Technik währenddessen weiter. Der Konzern arbeitet an leistungsfähigeren EUV-Lichtquellen, höherem Waferdurchsatz und der nächsten Generation der High-NA-EUV-Systeme. China verfolgt damit kein stillstehendes Ziel. Während die heimischen Entwickler ältere technologische Lücken schließen, verschiebt ASML die Grenze der kommerziell verfügbaren Spitzentechnik weiter nach vorn.

Die Börsenreaktion war Warnsignal und Übertreibung zugleich
Die Nachricht über die chinesische DUV-Fertigung löste an den Finanzmärkten dennoch erhebliche Unruhe aus. Die ASML-Aktie verlor innerhalb von zwei Handelstagen ungefähr zehn Prozent. Zeitweise wurden mehr als sechzig Milliarden Euro Börsenwert vernichtet.

Diese Reaktion war weniger eine Bewertung der fünf angekündigten Maschinen als eine Neubewertung des langfristigen Risikos. China bleibt für ASML ein bedeutender Absatzmarkt. Für 2026 rechnet der Konzern damit, ungefähr zwanzig Prozent seines Umsatzes mit chinesischen Kunden zu erzielen. Das entspricht bei der aktuellen Jahresprognose einer Größenordnung von etwa neun Milliarden Euro. Sollte China seine DUV-Technik in den kommenden Jahren ausreichend stabilisieren, könnte dieser Umsatzanteil schrittweise unter Druck geraten. Der Effekt wäre besonders stark, wenn Peking heimische Chipfabriken dazu verpflichtet, chinesische Anlagen selbst bei zunächst geringerer Produktivität zu bevorzugen.

Von einer akuten Krise bei ASML kann dennoch keine Rede sein. Der Konzern erzielte im zweiten Quartal 2026 einen Umsatz von 9,3 Milliarden Euro und einen Nettogewinn von 2,9 Milliarden Euro. Für das Gesamtjahr erwartet das Unternehmen inzwischen Erlöse zwischen 43 und 45 Milliarden Euro.

ASML plant zudem, seine Produktionskapazität für Immersions-DUV-Anlagen 2027 um rund dreißig Prozent zu erhöhen. Auch bei EUV-Systemen soll die Fertigung ausgebaut werden. Der weltweite Bedarf an Anlagen für KI-Prozessoren, Hochleistungsrechner und moderne Speicherchips bleibt ausgesprochen hoch.

China spielt nicht auf den nächsten Quartalsbericht
Der strategische Unterschied liegt im Zeithorizont. ASML muss seine technologische Führung sichern, Kunden beliefern und hohe Renditen erwirtschaften. China kann dagegen über Jahre Verluste, niedrige Ausbeuten und ineffiziente Produktionsschritte akzeptieren, wenn dadurch eine nationale Schlüsselindustrie entsteht.

Das Land hat dieses Muster bereits in anderen Bereichen gezeigt. Zunächst werden ausländische Technologien importiert, anschließend wird ein heimisches Zuliefernetz aufgebaut. Danach folgen staatlich gestützte Produktionskapazitäten, geschützte Absatzmärkte und eine schrittweise Senkung der Kosten. Ob dieses Modell bei Lithografieanlagen ebenso erfolgreich sein wird, ist offen. Die technische Komplexität liegt deutlich über jener vieler Konsum- und Industriegüter. ASMLs Vorsprung beruht nicht auf einem einzelnen Patent oder einer einzigen Maschine, sondern auf einem über Jahrzehnte gewachsenen Verbund aus Forschung, Zulieferern, Fertigungswissen und Kundendaten.

Dennoch wäre es riskant, die chinesischen Fortschritte allein mit dem Hinweis auf den heutigen Abstand abzutun. Entscheidend ist nicht, ob die erste Anlage ASML bereits ebenbürtig ist. Entscheidend ist, ob China damit einen funktionierenden Ausgangspunkt geschaffen hat, der durch reale Produktion, Fehleranalyse und staatlich garantierte Nachfrage verbessert werden kann.

Die nächsten zwei Jahre werden entscheidend
Der tatsächliche Wert des chinesischen Durchbruchs wird sich nicht an politischen Ankündigungen, sondern in den Fabriken von SMIC, Hua Hong und CXMT zeigen. Dort müssen die Anlagen nachweisen, dass sie über längere Zeit zuverlässig arbeiten und ausreichend hohe Ausbeuten erzielen.

Besonders wichtig wird sein, ob die geplante Produktion von fünf auf zwanzig Maschinen erhöht werden kann. Gelingt dieser Schritt, wäre das ein Hinweis darauf, dass China nicht nur ein einzelnes Versuchssystem, sondern eine belastbare Lieferkette aufgebaut hat. Scheitert die Skalierung an Präzisionsoptik, Lichtquellen, Materialien oder Qualitätskontrolle, könnte sich der vermeintliche Durchbruch als überbewertet erweisen. Werden dagegen Durchsatz und Zuverlässigkeit kontinuierlich verbessert, könnte ASML im chinesischen DUV-Markt innerhalb weniger Jahre einen ernstzunehmenden Wettbewerber erhalten.

Fazit
China hat ASML nicht entthront. Das Land verfügt weiterhin über keine kommerziell konkurrenzfähige EUV-Technologie und liegt bei Präzision, Durchsatz, Zuverlässigkeit und Produktionsumfang deutlich zurück.
Und doch ist etwas Grundlegendes geschehen. China hat offenbar begonnen, die schwierigste technische Abhängigkeit seiner Halbleiterindustrie in eine eigene industrielle Entwicklung zu überführen. Aus einem Forschungsziel wird schrittweise ein Produktionsprogramm.

ASMLs schlimmster Albtraum ist deshalb nicht eine chinesische Maschine, die schon heute besser arbeitet. Es ist die Aussicht auf einen chinesischen Halbleitermarkt, der aus politischen und strategischen Gründen immer weniger westliche Anlagen benötigt. Der Haken bleibt gewaltig. Zwischen fünf Testanlagen und einem global konkurrenzfähigen Lithografieunternehmen liegen Jahre intensiver Entwicklung. Doch die Annahme, China werde dauerhaft an dieser technologischen Hürde scheitern, ist spätestens jetzt nicht mehr haltbar.